[发明专利]折射率测量方法、折射率测量装置及光学元件制造方法在审
| 申请号： | 201480036869.X | 申请日： | 2014-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN105339778A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 杉本智洋 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45;G01M11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 程连贞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 以高精度测量被检体的折射率。本发明涉及一种用于通过将来自光源的光分成被检光和参照光并且测量源自参照光与穿过被检体的被检光之间的干涉的干涉光来测量被检体的折射率的方法。在该方法中，被检体被布置于其群折射率在特定波长处等于被检体的群折射率的介质中，干涉光被测量，特定波长基于被检光和参照光之间的相位差的波长依赖性被确定，并且，与特定波长对应的介质的群折射率被计算为与特定波长对应的被检体的群折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 测量方法 测量 装置 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于通过以下方式测量被检体的折射率的方法：将来自光源的光分成被检光和参照光、将被检光引入到被检体中、以及测量源自参照光与穿过被检体的被检光之间的干涉的干涉光，其特征在于，所述方法包括以下步骤：通过将被检体布置在其群折射率在特定波长处等于被检体的群折射率的介质中，测量源自穿过被检体和介质的被检光与穿过介质的参照光之间的干涉的干涉光；基于被检光与参照光之间的相位差的波长依赖性，确定所述特定波长；以及计算与所述特定波长对应的介质的群折射率作为与所述特定波长对应的被检体的群折射率。
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