[发明专利]多晶硅的晶体粒径分布的评价方法

摘要

利用X射线衍射法对多晶硅的晶体粒径分布进行评价时，将选取的圆板状试样(20)配置于来自密勒指数面<hkl>的布拉格反射能被检测出的位置，以圆板状试样(20)的中心作为旋转中心使其以旋转角度φ进行面内旋转以使由狭缝决定的X射线照射区域在圆板状试样(20)的主面上进行φ扫描，求出表示布拉格反射强度对于圆板状试样(20)的旋转角度(φ)的依赖性的图，进而，利用一阶微分值求出该φ扫描图的基线的衍射强度相对于每单位旋转角度的变化量。然后计算出使该变化量的绝对值正态分布时的偏度，使用该偏度作为晶体粒径分布的评价指标，选择适合作为单晶硅制造用原料的多晶硅。

主权项

一种多晶硅的晶体粒径分布的评价方法，其利用X射线衍射法对多晶硅的晶体粒径分布进行评价，其特征在于，将所述多晶硅制成板状试样，将该板状试样配置于来自密勒指数面<hkl>的布拉格反射能被检测出的位置，以该板状试样的中心作为旋转中心使其以旋转角度φ进行面内旋转以使由狭缝决定的X射线照射区域在所述板状试样的主面上进行φ扫描，求出表示来自所述密勒指数面的布拉格反射强度对于所述板状试样的旋转角度(φ)的依赖性的φ扫描图，进而，利用一阶微分值求出该φ扫描图的基线的衍射强度相对于每单位旋转角度的变化量，通过下式计算出使该变化量的绝对值正态分布时的偏度(skewness)，将该偏度(b值)用作晶体粒径分布的评价指标，$b=\frac{\left|n\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{\left(\frac{x_i-\stackrel{\&OverBar;}{x}}{s}\right)}^3\right|}{\left|(n-1)(n-2)\right|}$其中，n为数据个数，s为标准偏差，x_i为第i个数据，x拔为平均值。