[发明专利]控制分析仪器中样品污染的方法和设备在审
申请号: | 201480037794.7 | 申请日: | 2014-07-02 |
公开(公告)号: | CN105408735A | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | S·P·特雷奥夫 | 申请(专利权)人: | 怀亚特技术公司 |
主分类号: | G01N21/15 | 分类号: | G01N21/15 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵志刚;赵蓉民 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开一种能够减少分析仪器的测量单元中样品污染的方法和设备。样品单元被界定为密封在第一O形环内的区域。位于所述样品区域的外部是密封并界定密封件洗涤区域为第一和第二O形环之间区域的另一O形环。在流体样品被注入测量单元中之后,该密封件洗涤区域被施加压力,该压力推压第一O形环至其所在凹槽的最深处,当该单元被冲洗并为新样品和相应测量做好准备时,排出任何截留的溶剂并从测量单元的显著的死体积中移除。 | ||
搜索关键词: | 控制 分析仪器 样品 污染 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种用于控制分析仪器中样品污染的设备,其包含A)样品测量单元,其包括能够将液体样品注入其中的测量室;B)第一O形环,其安装于第一O形环凹槽内,所述第一O形环密封所述样品单元的所述测量室;C)第二密封装置,其位于所述第一O形环凹槽的周围;以及D)所述测量单元的密封件洗涤区域,其中所述密封件洗涤区域以所述第一O形环的一侧和所述第二密封装置的另一侧为边界,并且连接至流体通道;其中所述测量单元的所述测量室和所述测量单元的所述密封件洗涤区域能够接受足够压力以将所述第一O形环从在所述第一O形环凹槽内的初始侧位移动或形变至被压缩倚着壁的位置,从而排出包含在所述第一O形环凹槽内的一些流体。
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