[发明专利]在脉冲双磁控管溅射(DMS)工艺中平衡靶消耗的系统和方法有效
| 申请号： | 201480040877.1 | 申请日： | 2014-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN105555990B | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | D·克里斯蒂 | 申请（专利权）人： | 先进能源工业公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/34;C23C14/54;H01J37/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 苗征,于辉 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射系统和方法。所述系统具有至少一个具有第一磁控管和第二磁控管的双磁控管对，配置每个磁控管以支持靶材。所述系统还具有DMS组件，该DMS组件具有与开关组件和电压传感器连接的直流电源。配置所述DMS组件以独立地控制对每个磁控管的功率的施加，以及提供每个磁控管的电压的测量。所述系统还具有一个或多个致动器，配置所述致动器以使用由所述DMS组件提供的测量控制每个磁控管的电压。配置所述DMS组件和所述一个或多个致动器以响应每个磁控管的电压的测量，通过控制施加到每个磁控管的功率和电压，平衡靶材的消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 双磁控管 溅射 dms 工艺 平衡 消耗 系统 方法 | ||
【主权项】：
溅射系统，其包括：至少一个包括第一磁控管和第二磁控管的双磁控管对，配置所述双磁控管对中的每个磁控管以支持靶材；包括与多个开关组件和多个电压传感器连接的直流电源的双磁控管溅射(DMS)组件，配置所述DMS组件以独立地控制对每个磁控管施加功率，并提供每个磁控管的电压的测量；以及一个或多个致动器，其配置为使用由所述DMS组件提供的测量控制每个磁控管的电压；其中配置所述DMS组件和所述一个或多个致动器以响应每个磁控管的电压的测量，通过控制施加到每个磁控管的功率和电压，平衡靶材的消耗。
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