[发明专利]膜形成用组合物及其膜、以及使用其的有机半导体元件的制造方法

摘要

本发明的膜形成用组合物包含含有通式(1)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂。(R1各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基。R2各自独立地为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的含氟烃基，烃基中的氢原子可以被氟原子取代，重复单元中包含至少1个氟原子。)该组合物能够在有机半导体膜上形成膜，在光刻法等中得到有机半导体的精致的图案时，对蚀刻溶剂具有耐性，在有机半导体元件的制造方法中是有用的。

主权项

一种膜形成用组合物，其为用于在有机半导体膜上形成氟树脂膜的膜形成用组合物，其包含：含有通式(1)表示的重复单元的氟树脂、以及氟系溶剂，作为氟树脂，含有含氟率为30质量％以上且65质量％以下的氟树脂，氟系溶剂含有含氟烃或含氟醚，含氟烃为碳数4～8的直链状、支链状或环状的烃，烃中的氢原子的至少1个被氟原子取代，含氟醚为通式(2)表示的含氟醚，式(1)中，R1各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，R2各自独立地为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的含氟烃基，烃基中的氢原子可以被氟原子取代，重复单元中包含至少1个氟原子；R3‑O‑R4  (2)式(2)中，R3和R4各自独立地为碳数1～15的直链状、碳数3～15的支链状或碳数3～15的环状的烃基，化合物中的氢原子的至少1个被氟原子取代。