[发明专利]使用无固定形式管理区域的晶片检验

摘要

本发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法及系统。一种方法包含：基于晶片图案来确定晶片的管理区域的特性。确定所述特性包含：确定管理区域的位置；识别用于所述管理区域中的每一者的所述晶片图案中的至少一个所关注图案POI；允许所述管理区域中的任何者具有无固定形式形状；允许所述管理区域大于帧图像；及选择两个或两个以上POI用于所述管理区域中的至少一者。所述方法还包含：使用检验系统来搜索针对所述晶片所产生的图像中的POI。另外，所述方法包含：通过确定所述图像中的所述管理区域的位置且基于所述图像中的所述管理区域的所述位置将一或多个缺陷检测方法应用于所述图像而检测所述晶片上的缺陷。

主权项

1.一种用于检测晶片上的缺陷的计算机实施方法，其包括：基于晶片图案来确定晶片的管理区域的特性，其中确定所述特性包括：确定所述管理区域；识别用于所述管理区域中的每一者的所述晶片图案中的至少一个所关注图案；允许所述管理区域中的任何者具有无固定形式形状；选择两个或两个以上所关注图案用于所述管理区域中的至少一者；及允许所述管理区域中的任何者大于任何帧图像；使用检验系统来搜索针对所述晶片所产生的图像中的所关注图案；及通过确定所述图像中的所述管理区域的位置且基于所述图像中的所述管理区域的所述位置将一或多个缺陷检测方法应用于所述图像而检测所述晶片上的缺陷，其中使用一或多个计算机系统来执行所述确定、所述搜索及所述检测。