[发明专利]用于靶标分析的荧光传感器、用于靶标分析的试剂盒、和使用其的靶标分析方法在审

专利信息
申请号: 201480041690.3 申请日: 2014-06-27
公开(公告)号: CN105452467A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 金子直人;白鸟行大;堀井克纪;秋富穰;和贺岩 申请(专利权)人: 日本电气方案创新株式会社
主分类号: C12N15/115 分类号: C12N15/115;C12N15/09;C12Q1/68;G01N21/64;G01N21/78;G01N33/53;G01N33/542
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 穆彬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供用于靶标分析的新型荧光传感器、用于靶标分析的试剂盒、和使用其的靶标分析方法。所述用于靶标分析的荧光传感器特征在于:包括具有形成G四联体结构的G四联体形成核酸区(D)和与靶标结合的结合核酸区(A)的核酸分子;在不存在靶标时,所述G四联体形成核酸区(D)导致的G四联体的形成被抑制;在靶标存在时,通过由所述靶标与所述结合核酸区(A)接触导致在所述G四联体形成核酸区(D)中形成所述G四联体结构,所述G四联体形成区(D)形成卟啉复合物,并且所述复合物产生荧光。
搜索关键词: 用于 靶标 分析 荧光 传感器 试剂盒 使用 方法
【主权项】:
一种用于靶标分析的荧光传感器,所述荧光传感器包括选自由以下(I)、(II)、(III)、(IV)、和(V)组成的组的至少一种核酸分子,所述核酸分子各自包含形成G四联体的G四联体形成区(D)和与靶标结合的结合区(A),其中在不存在靶标的情况下,所述G四联体形成区(D)中G四联体的形成被抑制,并且在靶标的存在下,所述靶标与所述结合区(A)接触,由于所述接触而在所述G四联体形成区(D)中形成所述G四联体,所述G四联体形成区(D)和卟啉形成复合物,并且所述复合物产生荧光:(I)单链核酸分子,所述单链核酸分子按此顺序包含所述G四联体形成区(D)、阻断区(B)、和所述结合区(A),其中所述阻断区(B)与所述G四联体形成区(D)的部分区域(Dp)互补,并且在阻断区(B)侧的所述结合区(A)的末端区域(Ab)与所述G四联体形成区(D)的所述部分区域(Dp)的相邻区域(Df)互补并且还与在所述阻断区(B)侧的对侧的所述结合区(A)的末端区域(Af)互补;(II)单链核酸分子,所述单链核酸分子按此顺序包含所述G四联体形成区(D)、阻断区(B)、所述结合区(A)、和稳定区(S),其中所述阻断区(B)与所述G四联体形成区(D)的部分区域(Dp)互补,并且在结合区(A)侧的所述阻断区(B)的末端区域(Ba)与所述稳定区(S)互补;(III)单链核酸分子,所述单链核酸分子包含所述G四联体形成区(D)、茎形成区(SD)、所述结合区(A)、和茎形成区(SA),其中所述茎形成区(SD)包含与所述G四联体形成区(D)互补的序列,并且所述茎形成区(SA)包含与所述结合区(A)互补的序列;(IV)单链核酸分子,所述单链核酸分子包含所述G四联体形成区(D)和所述结合区(A),其中所述G四联体形成区(D)包含形成G四联体的第一区域(D1)和第二区域(D2),并且所述第一区域(D1)位于所述结合区(A)的一个端侧并且所述第二区域(D2)位于所述结合区(A)的另一个端侧;以及(V)双链核酸分子,所述双链核酸分子包含第一链(ss1)和第二链(ss2),其中所述第一链(ss1)按此顺序包含所述G四联体形成区(D)和所述结合区(A),并且所述第二链(ss2)按此顺序包含茎形成区(SD)和茎形成区(SA),所述茎形成区(SD)包含与所述G四联体形成区(D)互补的序列,并且所述茎形成区(SA)包含与所述结合区(A)互补的序列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电气方案创新株式会社,未经日本电气方案创新株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480041690.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top