[发明专利]具有促进受控的调节的材料组成的CMP垫

摘要

本公开的实施例总体上提供了用于具有微结构的抛光制品或抛光垫的方法和设备，所述微结构在暴露于激光能时促进均匀的调节。在一个实施例中，提供包含第一材料与第二材料的组合的抛光垫，所述第一材料比所述第二材料对激光能更具反应性。在另一实施例中，提供使复合抛光垫织构化的方法。所述方法包括以下步骤：将激光能源引导到抛光垫的表面上，使具较高激光吸收率的第一材料内有较大剥蚀率，具较低激光吸收率的第二材料内有较小剥蚀率，从而提供与复合抛光垫的微结构一致的微织构化的表面。

主权项

1.一种抛光垫，包含：主体，所述主体包含第一聚合物材料、第二聚合物材料和第三材料的组合，所述第二聚合物材料包含分散在所述第一聚合物材料中的多个纳米域，所述第三材料包含金属氧化物，其中，所述第三材料均匀地分散在所述第一聚合物材料或所述第二聚合物材料中，并且其中，所述第一聚合物材料比所述第三材料对激光能更具反应性。