[发明专利]用于气体分离的掺杂金属的沸石膜有效
| 申请号： | 201480043576.4 | 申请日： | 2014-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN105451880B | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 唐忠;李林峰;姜红敏 | 申请（专利权）人： | 百特吉公司 |
| 主分类号： | B01J29/42 | 分类号： | B01J29/42;C01B39/02;C07C7/144 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘奕晴;鲁恭诚 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种复合无机膜，其制备的方法以及利用其分离气体、蒸汽和液体的方法。所述复合沸石膜是通过TS‑1沸石膜合成,以及随后的钯掺杂来制备的。在复合沸石膜合成中，可以采用两种不同方法，包括沸石晶体的一个或多个层在多孔膜衬底上的原位结晶，以及通过沸石晶体的连续第二层在多孔膜衬底上支撑的MFI沸石晶体的晶种层上的原位结晶的二次生长方法。这种片式、管式或中空纤维形式的膜的性能优于聚合物膜和其他用于气体、蒸汽和液体分离的无机膜。尤其对某些小分子气体具有高度选择性，耐杂质性和优异的热和化学稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气体 分离 掺杂 金属 沸石膜 | ||
【主权项】：
1.一种用于气体分离的掺杂金属的沸石膜，其中，所述膜包括多孔衬底和其上的沸石层，所述沸石层具有孔，且在沸石膜上掺杂金属是通过从等离子体处理和UV辐射构成的组中选出的一个或多个过程实现的，从而使得金属簇形成在沸石孔中；所述金属簇包括过渡金属或过渡金属的合金。
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