[发明专利]用于热处理腔室的支撑圆柱有效
| 申请号： | 201480043642.8 | 申请日： | 2014-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN105453248B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 梅兰·贝德亚特;阿伦·缪尔·亨特;约瑟夫·M·拉内什;诺曼·L·塔姆;杰弗里·托宾;继平·李;马丁·德兰 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/324;H01L21/02 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式大体涉及用于热处理腔室中的支撑圆柱。在一个实施方式中，支撑圆柱包括具有内周表面和外周表面的环形主体，其中环形主体包括不透明石英玻璃材料且其中环形主体被光学透明层涂布。光学透明层具有与不透明石英玻璃材料实质匹配或相似的热膨胀系数以减少热膨胀不匹配，热膨胀不匹配可在高热负载下产生热应力。在一个实例中，不透明石英玻璃材料是合成黑石英且光学透明层包括透明熔融石英材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 热处理 支撑 圆柱 | ||
【主权项】：
1.一种用于热处理腔室的支撑圆柱，包括：/n圆柱主体，所述圆柱主体具有内周表面和平行于所述内周表面的外周表面，其中所述内周表面和所述外周表面沿着与所述支撑圆柱的纵轴平行的方向延伸；和/n平坦表面，所述平坦表面从所述外周表面往所述内周表面径向延伸，其中所述圆柱主体包括不透明石英玻璃材料且所述圆柱主体被光学透明层涂布，并且其中在所述内周表面上形成的所述光学透明层被反射涂层覆盖。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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