[发明专利]用于评价结构的所感兴趣的参数的值的重构品质的方法和检验设备以及计算机程序产品有效

专利信息
申请号: 201480044273.4 申请日: 2014-08-05
公开(公告)号: CN105452963B 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: S·I·马萨瓦特;H·克拉莫;W·J·格鲁特吉恩斯;A·范李斯特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N21/956
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于评价结构的所感兴趣的参数的值的重构品质的方法和检验设备以及计算机程序产品,其可以应用于例如显微结构的量测中。重要的是重构提供结构的所感兴趣的参数(例如,CD)的值,当重构值被用于监测和/或控制光刻过程时所述值是精确的。这是一种通过使用结构的参数的重构值预测(804)结构的所感兴趣的参数的值并且通过对比(805)所感兴趣的参数的预测值和所感兴趣的参数的重构值来评价结构的所感兴趣的参数的值的重构(803)品质的方法,其不需要使用扫描电子显微镜。
搜索关键词: 用于 评价 结构 感兴趣 参数 品质 方法 检验 设备 以及 计算机 程序 产品
【主权项】:
一种评价结构的所感兴趣的参数的值的重构品质的方法,所述方法包括:对于一组结构中的每一个结构,使用一个或多个辐射束照射该结构并且检测由辐射和所述结构之间的相互作用引起的与所述结构相关的信号;对于该组结构中的每一个结构,由与结构相关的信号重构该结构的数学模型的参数的值,其中所述参数中的至少一个参数被指定为结构的所感兴趣的参数;使用与该组结构相关的参数的重构值中的至少一子组的重构值对于该组结构中的每一个结构预测结构的所感兴趣的参数的值;对比所感兴趣的参数的预测值和所感兴趣的参数的重构值来评价结构的所感兴趣的参数的值的重构品质,其中所述预测使用回归分析的方法。
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