[发明专利]外延反应器

摘要

一个实施例包括反应室；基座，该基座位于反应室中并且使晶片坐置其中；和气体流动控制器，该气体流动控制器用于控制引入到反应室中的气体流动，其中，该气体流动控制器包括注射盖，该注射盖具有用于分开气体流动的多个气体出口，并且包括多个挡板，每个挡板具有与多个气体出口分别相对应的多个通孔，而且，多个挡板彼此隔开，并且挡板的每个布置成与所述多个气体出口的相应气体出口相邻。

主权项

一种外延反应器，包括：反应室；基座，所述基座位于所述反应腔室中以使得晶片坐置在所述基座上；以及气体流动控制器，所述气体流动控制器用于控制引入到所述反应室中的气体流动，其中，所述气体流动控制器包括：注射盖，所述注射盖具有用以分开所述气体流动的多个气体出口和从其一个表面突出的导引部以暴露所述气体出口；和多个挡板，每个所述挡板具有与所述气体出口的相应一个对应的通孔，以及其中，各所述挡板彼此隔开，并且所述挡板的每个布置成与所述气体出口的相应一个相邻，其中所述挡板的每个包括：板，所述板具有位于其中的彼此间隔的通孔；多个支腿，所述多个支腿连接到所述板的一个表面并彼此间隔开，其中所述板插入所述导引部中，且所述支腿插入到所述相关的气体出口，以及其中每个所述板的上表面位于所述导引部的上表面下方，且在每个所述板的所述上表面与所述导引部的所述上表面之间存在距离。