[发明专利]包含异噻唑啉杀虫剂和活性炭的悬浮液浓缩物组合物有效
申请号: | 201480045947.2 | 申请日: | 2014-06-11 |
公开(公告)号: | CN105472987B | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | P·宾德沙德勒;A·克里斯塔多罗 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | A01N43/80 | 分类号: | A01N43/80;A01N25/02;A01P7/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 王丹丹,刘金辉 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的主题为包含a)异噻唑啉杀虫剂和b)活性炭的悬浮液浓缩物组合物,其中组合物基本不含非极性溶剂。本发明进一步涉及制备所述组合物的方法;可通过将水、异噻唑啉杀虫剂和活性炭混合而得到的悬浮液;和防治不想要的昆虫或螨侵袭的方法,其中使悬浮液浓缩物组合物或悬浮液作用于各害虫、其环境或者待保护以防各害虫的作物植物。 | ||
搜索关键词: | 包含 噻唑 杀虫剂 活性炭 悬浮液 浓缩物 组合 | ||
【主权项】:
悬浮液浓缩物组合物,其包含:a)式I的异噻唑啉杀虫剂及其N‑氧化物、立体异构体和农业或兽医可接受盐:其中:A为基团A1、A2、A3或A4;其中:A1选自‑C(=NR6)R8、‑S(O)nR9和‑N(R5)R6;A2为下式的基团:其中:#表示至式(I)芳环的键;W选自O和S;Y选自氢、‑N(R5)R6和‑OR9;A3为下式的基团:其中:#表示至式(I)芳环的键;A4为3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环,所述环包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,或者为8‑、9‑或10‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂二环,所述环包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂单环或杂二环任选被一个或多个取代基R11取代;B1、B2和B3各自独立地选自N和CR2,条件是B1、B2和B3中的至多两个为N;G1、G2、G3和G4各自独立地选自N和CR4,条件是G1、G2、G3和G4中的至多两个为N;R1选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基‑、C2‑C4烯基、C2‑C4卤代烯基、C2‑C4炔基、C2‑C4卤代炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和‑C(=O)OR15;各个R2独立地选自氢、卤素、氰基、叠氮基、硝基、‑SCN、‑SF5、C1‑C6烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,其中最后提到的4个脂族和脂环族基团可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代,‑Si(R12)3、‑OR9、‑S(O)nR9、‑NR10aR10b,可被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑、7‑、8‑、9‑或10‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂二环,其包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂单环或杂二环可被一个或多个基团R11取代;R3a、R3b各自独立地选自氢、卤素、羟基、‑CO2R3d、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基、C2‑C3烯基、C2‑C3炔基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷氧基、C1‑C3烷硫基、C1‑C3卤代烷硫基、C1‑C3烷基磺酰基和C1‑C3卤代烷基磺酰基;或者R3a和R3b一起形成基团=O、=C(R3c)2、=NOH或=NOCH3;各个R3c独立地选自氢、卤素、CH3和CF3;R3d选自氢、C1‑C6烷基和C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基‑;各个R4独立地选自氢、卤素、氰基、叠氮基、硝基、‑SCN、‑SF5、可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代的C1‑C6烷基、可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代的C3‑C8环烷基、可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代的C2‑C6烯基、可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代的C2‑C6炔基,‑Si(R12)3、‑OR9、‑S(O)nR9、‑NR10aR10b,可被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑、7‑、8‑、9‑或10‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂二环,其包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂单环或杂二环可被一个或多个基团R11取代;各个R5独立地选自氢、C1‑C10烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C10烯基、C2‑C10炔基,其中最后提到的4个脂族和脂环族基团可部分或完全卤化和/或可被一个或多个取代基R8取代,和‑S(O)nR9,各个R6独立地选自氢、氰基、C1‑C10烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C10烯基、C2‑C10炔基,其中最后提到的4个脂族和脂环族基团可部分或完全卤化和/或可被一个或多个取代基R8取代,‑OR9、‑NR10aR10b、‑S(O)nR9、‑C(=O)NR10aN(R10a)R10b、‑Si(R12)3、‑C(=O)R8,可被1、2、3、4或5个取代基R11取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑、7‑、8‑、9‑或10‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂二环,其包含1、2、3或4个独立地选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂单环或杂二环可被一个或多个取代基R11取代;或者R5和R6与它们结合的氮原子一起形成3‑、4‑、5‑、6‑、7‑或8‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,其中环可进一步包含1、2、3或4个选自O、S、N、SO、SO2、C=O和C=S的杂原子或含杂原子基团作为环成员,其中杂环可被1、2、3、4或5个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基,其中最后提到的12个基团中的脂族或脂环族结构部分可被一个或多个基团R8取代,和可被1、2、3、4或5个取代基R11取代的苯基;或者R5和R6一起形成基团=C(R8)2、=S(O)m(R9)2、=NR10a或=NOR9;R7a、R7b各自独立地选自氢、卤素、氰基、C1‑C6烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C6烯基和C2‑C6炔基,其中最后提到的4个脂族和脂环族基团可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代;各个R8独立地选自氰基、叠氮基、硝基、‑SCN、‑SF5、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基,其中最后提到的两个基团中的脂环族结构部分可被一个或多个基团R13取代;‑Si(R12)3、‑OR9、‑OSO2R9、‑S(O)nR9、‑N(R10a)R10b、‑C(=O)N(R10a)R10b,‑C(=S)N(R10a)R10b、‑C(=O)OR9,任选被1、2、3、4或5个取代基R16取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2或3个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选被一个或多个取代基R16取代,或者存在于烷基、烯基、炔基或环烷基的相同碳原子上的两个R8一起形成基团=O、=C(R13)2;=S;=S(O)m(R15)2、=S(O)mR15N(R14a)R14b、=NR10a、=NOR9;或=NN(R10a)R10b;或者两个基团R8与它们结合的烷基、烯基、炔基或环烷基的碳原子一起形成3‑、4‑、5‑、6‑、7‑或8‑元饱和或部分不饱和碳环或杂环,其中杂环包含1、2、3或4个独立地选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,且其中碳环或杂环任选被一个或多个取代基R16取代;和环烷基环上作为取代基的R8还选自C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基和C2‑C6卤代炔基,其中这6个基团中的脂族结构部分可被一个或多个基团R13取代;和基团‑C(=NR6)R8、‑C(=O)R8和=C(R8)2中的R8还选自氢、卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基和C2‑C6卤代炔基,其中最后提到的6个基团中的脂族结构部分可被一个或多个基团R13取代;各个R9独立地选自氢、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C3‑C8环烷基、C3‑C8环烷基‑C1‑C4烷基‑、C3‑C8卤代环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基,其中最后提到的9个基团中的脂族和脂环族结构部分可被一个或多个基团R13取代,‑C1‑C6烷基‑C(=O)OR15、‑C1‑C6烷基‑C(=O)N(R14a)R14b,‑C1‑C6烷基‑C(=S)N(R14a)R14b、‑C1‑C6烷基‑C(=NR14)N(R14a)R14b,‑Si(R12)3、‑S(O)nR15、‑S(O)nN(R14a)R14b、‑N(R10a)R10b、‑N=C(R13)2、‑C(=O)R13,‑C(=O)N(R14a)R14b、‑C(=S)N(R14a)R14b、‑C(=O)OR15,任选被一个或多个取代基R16取代的苯基;和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2或3个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选被一个或多个取代基R16取代;和基团‑S(O)nR9和‑OSO2R9中的R9还选自C1‑C6烷氧基和C1‑C6卤代烷氧基;R10a、R10b相互独立地选自氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基,其中最后提到的8个基团中的脂族和脂环族结构部分可被一个或多个基团R13取代;‑C1‑C6烷基‑C(=O)OR15、‑C1‑C6烷基‑C(=O)N(R14a)R14b、‑C1‑C6烷基‑C(=S)N(R14a)R14b、‑C1‑C6烷基‑C(=NR14)N(R14a)R14b、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基,‑S(O)nR15、‑S(O)nN(R14a)R14b、‑C(=O)R13、‑C(=O)OR15、‑C(=O)N(R14a)R14b,‑C(=S)R13、‑C(=S)SR15、‑C(=S)N(R14a)R14b、‑C(=NR14)R13;任选被1、2、3或4个取代基R16取代的苯基;和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选被一个或多个取代基R16取代;或者R10a和R10b与它们结合的氮原子一起形成3‑、4‑、5‑、6‑、7‑或8‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,其中杂环还可包含一个或两个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选带有一个或多个取代基,所述取代基选自卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基,任选被1、2、3、4或5个取代基R16取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2或3个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选带有一个或多个取代基R16;或者R10a和R10b一起形成基团=C(R13)2、=S(O)m(R15)2、=S(O)mR15N(R14a)R14b、=NR14或=NOR15;R11独立地选自卤素、氰基、叠氮基、硝基、‑SCN、‑SF5、C1‑C10烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C10烯基、C2‑C10炔基,其中最后提到的4个脂族和脂环族基团可部分或完全卤化和/或可被一个或多个基团R8取代,‑OR9、‑NR10aR10b、‑S(O)nR9、‑Si(R12)3;任选被1、2、3、4或5个独立地选自R16的取代基取代的苯基;和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和芳族杂环,所述杂环包含1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选被一个或多个独立地选自R16的取代基取代;或者存在于不饱和或部分不饱和杂环的相同环碳原子上的两个R11可一起形成基团=O、=C(R13)2;=S;=S(O)m(R15)2;=S(O)mR15N(R14a)R14b、=NR14、=NOR15,或者=NN(R14a)R14b;或者结合在相邻环原子上的两个R11与它们结合的环原子一起形成饱和3‑、4‑、5‑、6‑、7‑、8‑或9‑元环,其中环可包含一个或两个选自O、S、N、NR14、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团和/或一个或两个选自C=O、C=S和C=NR14的基团作为环成员,且其中环可被一个或多个选自如下的基团取代:卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、可被1、2、3、4或5个基团R16取代的苯基,和3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2或3个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环可被一个或多个基团R16取代;各个R12独立地选自氢、卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C2‑C6烯基、C2‑C6卤代烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C3‑C8环烷基、C3‑C8卤代环烷基、C1‑C6烷氧基‑C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷氧基‑C1‑C6烷基,和任选被1、2、3、4或5个取代基R16取代的苯基;各个R13独立地选自氰基、硝基、‑OH、‑SH、‑SCN、‑SF5、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C1‑C6烷基亚硫酰基、C1‑C6卤代烷基亚硫酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基,C3‑C8环烷基,其可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:C1‑C4烷基、C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和氧基;苯基、苄基、苯氧基,其中最后提到的3个基团中的苯基结构部分可未被取代或者带有1、2、3、4或5个取代基R16;以及3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含1、2或3个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环可被1、2或3个取代基R16取代;或者存在于烷基、烯基、炔基或环烷基的相同碳原子上的两个R13可一起为=O、=CH(C1‑C4烷基)、=C(C1‑C4烷基)C1‑C4烷基、=N(C1‑C6烷基)或=NO(C1‑C6烷基);和在环烷基环上作为取代基的R13还选自C1‑C6烷基、C2‑C6烯基和C2‑C6炔基,其中最后提到的三个脂族基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的取代基:CN、C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和氧基;和基团=C(R13)2、‑N=C(R13)2、‑C(=O)R13、‑C(=S)R13和‑C(=NR14)R13中的R13还选自氢、卤素、C1‑C6烷基、C2‑C6烯基和C2‑C6炔基,其中最后提到的三个脂族基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:CN、C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和氧基;各个R14独立地选自氢、氰基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C1‑C6烷基亚硫酰基、C1‑C6卤代烷基亚硫酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基,C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,其中最后提到的三个脂族基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:CN、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚硫酰基、C1‑C4烷基磺酰基、可被一个或两个选自卤素和氰基的取代基取代的C3‑C4环烷基;和氧;C3‑C8环烷基,其可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚硫酰基、C1‑C4烷基磺酰基、C3‑C4环烷基、C3‑C4环烷基‑C1‑C4烷基‑,其中最后提到的两个基团中的环烷基结构部分可被一个或两个选自卤素和氰基的取代基取代;和氧;苯基、苄基、吡啶基、苯氧基,其中最后提到的4个基团中的环状结构部分可未被取代和/或带有1、2或3个选自如下的取代基:卤素、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基和(C1‑C6烷氧基)羰基;以及3‑、4‑、5‑或6‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,所述杂环包含一个或两个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选被一个或多个取代基R16取代;R14a和R14b相互独立地具有关于R14给出的一种含义;或者R14a和R14b与它们结合的氮原子一起形成3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环,其中杂环还可包含一个或两个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选带有一个或多个取代基,所述取代基选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基;或者R14a和R14或R14b和R14与它们在基团‑C(=NR14)N(R14a)R14b中结合的氮原子一起形成3‑、4‑、5‑、6‑或7‑元部分不饱和或最大不饱和杂环,其中杂环还可包含一个或两个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,其中杂环任选带有一个或多个选自卤素、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基;各个R15独立地选自氢、氰基、三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基,C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,其中最后提到的三个脂族基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚硫酰基、C1‑C4烷基磺酰基和氧基的基团;C3‑C8环烷基,其可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自C1‑C4烷基、C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4烷基亚硫酰基、C1‑C4烷基磺酰基和氧基的基团;苯基、苄基、吡啶基和苯氧基,其中最后提到的4个基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或带有1、2或3个选自如下的取代基:C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基和(C1‑C6烷氧基)羰基;各个R16独立地选自卤素、硝基、氰基、‑OH、‑SH、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6卤代烷硫基、C1‑C6烷基亚硫酰基、C1‑C6卤代烷基亚硫酰基、C1‑C6烷基磺酰基、C1‑C6卤代烷基磺酰基、三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基;C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,其中最后提到的三个脂族基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和氧基;C3‑C8环烷基,其可以未被取代、部分或完全卤化和/或可带有一个或两个选自如下的基团:C1‑C4烷基、C3‑C4环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基和氧基;苯基、苄基、吡啶基和苯氧基,其中最后提到的4个基团可以未被取代、部分或完全卤化和/或带有1、2或3个选自如下的取代基:C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基和(C1‑C6烷氧基)羰基;或者一起存在于不饱和或部分不饱和环的相同原子上的两个R16可以为=O、=S、=N(C1‑C6烷基)、=NO(C1‑C6烷基)、=CH(C1‑C4烷基)或=C(C1‑C4烷基)C1‑C4烷基;或者两个相邻碳原子上的两个R16与它们结合的碳原子一起形成4‑、5‑、6‑、7‑或8‑元饱和、部分不饱和或最大不饱和环,其中环可包含一个或两个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员,且其中环任选包含一个或多个选自卤素、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基;各个n独立地为0、1或2;各个m独立地为0或1,以及b)活性炭,其中悬浮液浓缩物组合物包含不多于1重量%非极性溶剂,其中非极性溶剂具有在20℃下在水中为至多10g/l的溶解度,和其中异噻唑啉杀虫剂和活性炭以1‑10重量%:10‑1重量%的比存在。
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