[发明专利]晶片透镜、晶片透镜阵列、晶片透镜叠层体及晶片透镜阵列叠层体有效
| 申请号： | 201480046049.9 | 申请日： | 2014-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN105518491B | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 和木敏则;浜田豊三;寺内利浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社大赛璐 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B5/00;G02B7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种晶片透镜阵列，其具有有助于不影响晶片透镜的光学特性这样的制造工序的结构特性。本发明的晶片透镜阵列具有一维或二维排列的多个透镜部1、结合于各透镜部1的周围且将多个透镜部1互相连结的非透镜部2、与设置于被拍摄体侧的透镜部1和/或非透镜部2的遮光部3；其中，透镜部1的高度与遮光部3的高度满足式(1)。透镜部1的高度<遮光部3的高度…式(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 透镜 阵列 叠层体 | ||
【主权项】：
一种晶片透镜阵列，其具有：一维或二维排列的多个透镜部(1)，非透镜部(2)，其结合于各透镜部(1)的周围且将多个透镜部(1)互相连结在一起，以及遮光部(3)，其设置于被拍摄体侧的透镜部(1)和/或非透镜部(2)，且为板状、片状或膜状；其中，透镜部(1)的高度、非透镜部(2)的高度与遮光部(3)的高度满足式(2)，遮光部(3)以覆盖非透镜部(2)的表面的一部分或全部的方式设置，非透镜部(2)的高度≤透镜部(1)的高度<遮光部(3)的高度…式(2)式(2)中的“高度”是指：以被拍摄体侧为上表面将晶片透镜阵列载置于水平面时从水平面至各部的被拍摄体侧表面的垂直距离，而且，透镜部(1)和/或非透镜部(2)和/或遮光部(3)中存在多个高度不同的部位时，是指其中最高部位的高度。
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