[发明专利]曝光装置以及曝光方法有效
| 申请号： | 201480047009.6 | 申请日： | 2014-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN105474102B | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 松冈尚弥 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了在掩膜尺寸较大的情况下也能适当地矫正掩膜的弯曲，能以高精度进行曝光的曝光装置以及曝光方法。本发明涉及的曝光装置(1)包括光源(100)；设置有掩膜图案的光学板(11)；以及保持光学板(11)，在光学板(11)的光源(100)一侧形成气密空间(12)的掩膜支架(13)。来自光源(100)的光照射至光学板(11)，使掩膜图案曝光在工件(10)上。具有调整气密空间(12)内的压力的压力调整机构(20)，以及使掩膜支架(13)倾斜为规定的角度的倾斜机构(21)，在利用倾斜机构(21)使掩膜支架(13)倾斜了规定的角度的状态下，利用压力调整机构(20)调整气密空间(12)内的压力之后，使掩膜支架(13)恢复至原先的角度，进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：光源；光学板，该光学板设置有掩膜图案；以及掩膜支架，该掩膜支架保持该光学板，在所述光学板的所述光源一侧形成气密空间，来自所述光源的光照射至所述光学板，使所述掩膜图案曝光在工件上，该曝光装置的特征在于，具有：压力调整机构，该压力调整机构调整所述气密空间内的压力；以及倾斜机构，该倾斜机构使所述掩膜支架倾斜为规定的角度，在利用该倾斜机构使所述掩膜支架倾斜了规定的角度的状态下，利用所述压力调整机构调整所述气密空间内的压力之后，利用所述倾斜机构使所述掩膜支架恢复至原先的角度，进行曝光。
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