[发明专利]次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法有效
| 申请号： | 201480047664.1 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN105517959B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 吉川浩;染谷新太郎;都司雅人;大森千晴 | 申请（专利权）人： | 奥加诺株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;A01N59/00;A01P3/00;B01D65/06;B01D71/56;C01B11/20;C02F1/50 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供实质上不含溴酸根离子且杀菌性能优异、对于金属而言基本无腐蚀性、保存稳定性优异的单液系的次溴酸稳定化组合物的制造方法。次溴酸稳定化组合物的制造方法包括在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应的工序，溴的添加率相对于组合物的总量为25重量％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 溴酸 稳定 组合 制造 方法 以及 分离 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥加诺株式会社，未经奥加诺株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480047664.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
