[发明专利]印刷用掩膜以及使用该掩膜的印刷方法无效
| 申请号： | 201480047941.9 | 申请日： | 2014-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN105492215A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | B41N1/24 | 分类号： | B41N1/24;B41M1/12;H05K3/12 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;青炜 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种印刷用掩膜以及使用该掩膜的印刷方法。印刷用掩膜具备：掩膜基材(4)，其具有形成于印刷面侧并与待印刷的图案相对应的印刷槽图案(4a)、与贯通于该印刷槽图案的底面且内径小于其底面宽度的贯通孔(4b)；以及保持部件(3)，其层叠于该掩膜基材并具有经由掩膜基材的贯通孔而与印刷槽图案内连通以填充转印材料的开口图案(3a)。而且，通过印刷槽图案在贯通孔以外的周边区域(4c)连接，能够抑制掩膜基材的图案的错位、变形。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 用掩膜 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种印刷用掩膜，其特征在于，具备：掩膜基材，其具有形成于印刷面侧并与待印刷的图案相对应的印刷槽图案、与贯通于该印刷槽图案的底面且内径小于其底面宽度的贯通孔；以及保持部件，其层叠于所述掩膜基材并具有经由所述掩膜基材的贯通孔而与所述印刷槽图案内连通以填充转印材料的开口图案，所述印刷槽图案在所述贯通孔以外的周边区域连接。
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