[发明专利]紫外线漫射照射有效
| 申请号： | 201480048772.0 | 申请日： | 2014-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN105518380B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | S·斯梅塔纳;A·杜博尔因斯基;T·J·贝特尔斯;Y·布林寇;I·格斯卡;M·舒尔;R·格斯卡 | 申请（专利权）人： | 传感器电子技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;G02B5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 郭思宇 |
| 地址： | 美国南*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于生成紫外线漫射辐射的解决方案。漫射紫外线辐射照射器包括位于包括多个表面的反射腔内的至少一个紫外线辐射源。所述多个表面当中至少一个可被配置为漫反射至少70％的紫外线辐射，并且所述多个表面中当中至少一个可被配置为透射至少30％的紫外线辐射并反射至少10％的紫外线辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外线 漫射 照射 | ||
【主权项】：
1.一种照射器，包括：至少一个紫外线辐射源，被配置为生成紫外线辐射；包括多个表面的反射腔，其中所述至少一个紫外线辐射源位于所述反射腔内，其中所述多个表面当中至少一个由第一材料制成，被配置为漫反射至少70％的紫外线辐射，并且所述多个表面中当中至少一个由第二材料制成，被配置为透射至少30％的紫外线辐射穿过第二材料并离开反射腔，并且反射至少10％的紫外线辐射，其中第二材料被构图为包括多个孔，该多个孔被配置为增强离开反射腔的紫外线辐射的均匀性；和反射镜集合，位于所述反射腔内并被配置为漫反射紫外线辐射，其中每个反射镜被构图为包括多个孔，该多个孔被配置为改善离开反射腔的紫外线辐射的强度分布。
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