[发明专利]通过调节性折射介质进行聚焦阵列扫描的设备和方法有效
| 申请号： | 201480048795.1 | 申请日： | 2014-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN105518509B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·次格瑞斯;方淇音 | 申请（专利权）人： | 麦克马斯特大学 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人： | 徐江华 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了使用至少一个可调或倾斜介质执行聚焦阵列扫描的方法和设备。所述介质能够被可控地倾斜以将电磁照射光束垂直于其传播而平移，并在离开介质时将沿原来的进入方向传播。这允许例如激光器之类的发射照射设备保持静止而且仍扫描2D阵列。此外，反射的荧光经历相反的偏移以“逆行”扫描偏移并使微光束重新与微透镜阵列对准。因此，收集光纤在扫描过程中可保持静止并从样品上的不同斑点收集光。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 调节 折射 介质 进行 聚焦 阵列 扫描 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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