[发明专利]用于固化硅的具有低渗透率涂层的衬底在审
| 申请号： | 201480050801.7 | 申请日： | 2014-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN105593193A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 让-保罗·加朗代;丹尼斯·卡梅尔;贝亚特丽斯·德勒韦;尼古拉斯·于斯塔泽普罗斯;查尔斯·休格特;约翰·特斯塔尔德;拉伊萨·沃伊托维奇 | 申请（专利权）人： | 原子能与替代能源委员会 |
| 主分类号： | C04B41/87 | 分类号： | C04B41/87;C04B41/89;C30B11/00;C30B15/10 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;石磊 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种衬底，其特征在于，所述衬底被至少部分地表面涂覆有涂层，所述涂层含有至少一个所谓的“屏障”层，所述“屏障”层包括二氧化硅和选自SiC、Si、Si3N4中的一种或多种材料X，在所述“屏障”层中，相对于所述屏障层的总重量，X的量在25重量％至50重量％之间变化，所述屏障层由至少部分地包括在二氧化硅壳层中的一种或多种材料X的细粒构成，所述屏障层与所述衬底直接接触。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 固化 具有 渗透 涂层 衬底 | ||
【主权项】：
一种衬底，其特征在于，所述衬底被至少部分地表面涂覆有涂层，所述涂层含有至少一个被称为“屏障”层的层，所述层包括二氧化硅和选自SiC、Si和Si3N4中的一种或多种材料X，在所述层中，相对于所述屏障层的总重量，X的重量范围为25％至50％，所述屏障层由至少部分地涂覆有二氧化硅壳层的一种或多种材料X的细粒构成，所述屏障层被设置成与所述衬底直接接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于原子能与替代能源委员会，未经原子能与替代能源委员会许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480050801.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制备卤代酮的方法
- 下一篇：排水处理方法及排水处理装置
