[发明专利]扫描探针纳米光刻系统和方法有效
| 申请号： | 201480050944.8 | 申请日： | 2014-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN105793776B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 菲利克斯·霍尔茨纳;菲利普·保罗;米卡尔·西恩泰克;阿明·诺尔;科林·罗林斯 | 申请（专利权）人： | 瑞士力托股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;王春伟 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 扫描探针纳米光刻系统包括用于通过在样本上沿着线(61)逐像素地刻写所述纳米结构(74)而逐行(60)创建纳米结构的探针。定位系统被适配为提供将探针在一系列预定位置处定位到样本和提供其朝着所述探针的表面，并且控制单元(50)被设置为控制定位系统定位探针以通过刻写单元逐像素地刻写所述线(61)。所述扫描探针纳米光刻系统还包括被适配为检测所刻写的纳米结构(74)的预定属性的传感器单元，所述传感器单元连接到控制单元来改变待提供到刻写单元的控制信号，以适合基于所测量的预定属性的信号(65；66)刻写后续线(61；62)。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 探针 纳米 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种扫描探针纳米光刻系统，包括：探针(31)，其用于通过在样本(20)上沿着线(61)逐像素地刻写纳米结构(24)而逐行地创建所述纳米结构；定位系统(10)，优选为XYZ定位系统(10)，所述定位系统被适配为提供将所述探针(31)在一系列预定位置处定位到所述样本(20)和提供其朝着所述探针(31)的表面(21)；和被适配为控制定位系统(10)定位所述探针(31)以通过刻写单元逐像素地刻写所述线(61)的控制单元(50)，所述刻写单元包括用于创建所述纳米结构(24)的刻写/致动机构(41)，其特征在于，所述扫描探针纳米光刻系统包括被适配为检测所刻写的纳米结构(74)的预定属性的传感器单元(40)，所述传感器单元(40)连接到控制单元(50)来改变待提供到所述刻写单元的控制信号以适合基于所测量的预定属性信号刻写后续线(61)。
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