[发明专利]透镜阵列及其制造方法、固态成像设备和电子设备有效

专利信息
申请号: 201480051607.0 申请日: 2014-09-12
公开(公告)号: CN105556672B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 大塚洋一;西木户健树;葭叶一平 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;G02B3/00;H04N5/369
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 付生辉;张雪梅
地址: 日本国东*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本技术涉及可在抑制图像质量劣化的同时提高AF性能的透镜阵列及其制造方法、固态成像设备和电子设备。一种透镜阵列包括微透镜,所述微透镜对应于相位差检测像素形成,所述相位差检测像素被设置成混在成像像素中。所述微透镜中的每个被形成为使得其透镜面是基本上球形面,所述微透镜在平面图上具有矩形形状并且四个拐角基本上没有被倒圆,以及在剖视图上包括像素边界部分的对边中心部分的对边边界部分附近的底表面比包括对角边界部分的对角边界部分附近的底表面高。例如,本技术可应用于CMOS图像传感器的透镜阵列。
搜索关键词: 透镜 阵列 及其 制造 方法 固态 成像 设备 电子设备
【主权项】:
1.一种透镜阵列,所述透镜阵列包括:微透镜,其对应于相位差检测像素形成,所述相位差检测像素被设置成混在成像像素中,所述微透镜被形成为使得其透镜面是基本上球形面,所述微透镜在平面图上具有矩形形状并且四个拐角没有被倒圆,以及在剖视图上包括像素边界部分的对边中心部分的对边边界部分附近的底表面比包括对角边界部分的对角边界部分附近的底表面高,所述微透镜被形成为使得所述微透镜在平面图上具有正方形形状,以及第一曲率半径和第二曲率半径相等,所述第一曲率半径是所述对边中心部分的横截面中所述透镜面的曲率半径,所述第二曲率半径是所述对角边界部分的横截面中所述透镜面的曲率半径,所述相位差异检测像素的像素大小被设置成等于或大于3μm,以及如果用r=(d2+4t2)/8t表达所述透镜面的曲率半径r而其中d指代底表面的贯穿所述透镜面的顶部的横截面的宽度并且t指代以所述底表面为基准的所述透镜面的所述顶部的高度,则曲率半径比r1/r2即所述第一曲率半径r1和所述第二曲率半径r2之比被设置成0.98至1.20的范围内包括的值。
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