[发明专利]使用线性累加的x射线源有效
| 申请号： | 201480051973.6 | 申请日： | 2014-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN105556637B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 云文兵;西尔维娅·贾·云·路易斯;雅诺什·科瑞;艾伦·弗朗西斯·里昂 | 申请（专利权）人： | 斯格瑞公司 |
| 主分类号： | H01J35/14 | 分类号： | H01J35/14;H05G1/32 |
| 代理公司： | 11258 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李晓冬 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于高亮度x射线产生的小型源。通过用电子束轰击彼此对准的多个区域以实现x射线线性累加从而实现更高亮度。这通过对准离散x射线发射器或者通过使用新颖的x射线靶来实现，这种新颖的x射线靶包括x射线产生材料的多个微结构，这些微结构被制成与具有高热导率的基板成密切热接触。这允许从x射线产生材料更高效地抽出热并且允许以更高的电子密度和/或更高能电子轰击这种材料，得到更大x射线亮度。微结构的定向允许使用轴上收集，允许来自多个对准的微结构的x射线累加，看起来似乎具有单个原点，也被称作“零角度”x射线发射。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 线性 累加 射线 | ||
【主权项】：
1.一种x射线源，包括：/n真空腔室；/n对于x射线透明的窗口，其附连到所述真空腔室的壁上；/n在所述真空腔室内的至少一个电子束发射器；/n在所述真空腔室内的至少两个靶，所述至少两个靶中的每个靶包括：/n基板，其包括第一选定材料；以及/n多个离散结构，其包括根据其x射线产生特性选择的第二材料，/n其中，所述多个离散结构中每一个与所述基板成热接触；/n所述离散结构中至少一个具有小于10微米的厚度；以及/n所述离散结构中所述至少一个的每个横向尺寸小于50微米；以及/n至少一个x射线光学元件，所述至少一个x射线光学元件被定位成使得从所述至少两个靶中的一个靶发射的x射线由所述至少一个x射线光学元件导向至所述至少两个靶中的另一个靶上。/n
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