[发明专利]具有支撑元件的衬托器有效
| 申请号： | 201480052013.1 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN105555999B | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;劳拉·戈博;M·毛切里;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马尔科·普利西;卡尔梅洛·韦基奥 | 申请（专利权）人： | LPE公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 意大利米*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明主要涉及用于外延生长的反应器的衬托器，所述衬托器包括：圆盘形主体(90)，其具有第一面和第二面，其中第一面包括适于接收将经受外延生长的基底(2000)的至少一个区(99)；和至少一个支撑元件(91+97)，其用于基底(2000)、位于区(99)处；支撑元件(91+97)包括具有相对于圆盘被升高的边缘(97)的圆形圆盘(91)；区(99)可以是圆盘形主体(90)的凹进部(99)的底部或凸起的顶部；圆盘形主体(90)至少在凹进部(99)或凸起处是实心的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 支撑 元件 衬托 | ||
【主权项】：
一种用于外延生长的反应器的衬托器，包括：‑圆盘形主体，其具有第一面和第二面，其中所述第一面包括适于接收将经受外延生长的基底的至少一个区，和‑至少一个支撑元件，其用于放置在所述区处的所述基底；其中所述支撑元件包括具有相对于所述圆盘被升高的边缘的圆形圆盘；其中所述区是所述主体的凹进部的底部或所述主体的凸起的顶部；其中所述主体至少在所述凹进部或所述凸起处是实心的。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
