[发明专利]用于输入装置的电极及其制造方法在审
| 申请号： | 201480052590.0 | 申请日： | 2014-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN105579939A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 后藤裕史;越智元隆;志田阳子;奥野博行 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;B32B9/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的电极具有从透明基板的相反侧(表面侧)开始依次为由透明导电膜构成的第1层、由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至少一种构成的第2层、以及由反射率为40％以上、透射率为10％以下的金属膜构成的第3层的层叠结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 输入 装置 电极 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于输入装置的电极，其特征在于，是在透明基板上形成的电极，所述电极在透明基板的一面上具有以远离该面的顺序依次为如下层的层叠结构：由透明导电膜构成的第1层、由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至少一种构成的第2层、以及由反射率为40％以上、透射率为10％以下的金属膜构成的第3层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研，未经株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480052590.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：灵活引导程序代码架构
- 下一篇：设备通知
