[发明专利]利用选择性可渗透膜的方法有效
申请号: | 201480052903.2 | 申请日: | 2014-08-14 |
公开(公告)号: | CN105579399B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | S·巴德沃;S·S·奇德亿;F·T·西亚奇;A·库尔卡尼;A·E·胡格赫斯;D·F·肯尼迪 | 申请(专利权)人: | 联邦科学和工业研究组织 |
主分类号: | C01C1/04 | 分类号: | C01C1/04;B01D69/02;B01D71/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 谭冀 |
地址: | 澳大利*** | 国省代码: | 澳大利亚;AU |
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摘要: | 本发明涉及利用氢物质选择性可渗透膜用于合成产物的方法。本发明还涉及用于利用氢物质可渗透膜由氢插入或氢化反应来合成产物的方法。本发明还涉及用于利用氢物质选择性可渗透膜来合成氨的方法。所述膜提供了经表面修饰的膜,其可包括包含多个反应位点的能渗透的层,所述多个反应位点包括金属物质和用于促进该层中的反应的催化剂。 | ||
搜索关键词: | 选择性可渗透膜 氢物质 反应位点 合成产物 合成氨 表面修饰 金属物质 可渗透膜 氢化反应 催化剂 | ||
【主权项】:
一种用于通过包括氢物质的至少第一反应物与第二反应物的反应来合成产物的方法,所述方法包括:(i)提供氢物质选择性可渗透固体膜(HSPM),其具有氢物质接收侧和产物合成侧;(ii)在氢物质接收侧提供氢物质来源;(iii)在产物合成侧提供第二反应物来源;(iv)提供跨所述HSPM的氢物质来源的浓度梯度或分压压差,使得产物合成侧上的氢浓度低于氢物质接收侧上的氢浓度,由此实现氢物质迁移通过HSPM,以用于在产物合成侧的表面或其附近与第二反应物的反应;其中所述HSPM的至少产物合成侧具有表面修饰,所述表面修饰包括对于所述第二反应物能渗透的层用于促进在所述第一反应物和所述第二反应物之间在所述层中的反应以形成所述产物,且其中所述层包含由粗糙化表面、金属物质和催化剂提供的多个三相反应位点,以散布于粗糙化表面的组合物提供所述金属物质和所述催化剂。
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