[发明专利]投射曝光方法和微光刻的投射曝光设备

摘要

一种以图案的至少一个像曝光辐射敏感基板(W)的投射曝光方法，包含下列步骤：在照明系统(ILL)与投射曝光设备(WSC)的投射镜头(PO)之间提供图案，使得该图案设置于投射镜头的物平面(OS)区域内并可通过投射镜头成像至投射镜头的像平面(IS)中，所述像平面关于物平面光学共轭，其中该图案的成像相关特性可由图案数据表征；根据特定于使用案例并可由照明设定数据表征的照明设定，用照明系统(ILL)所提供的照明辐射照明该图案的照明区域；其特征在于：确定特定于该使用案例并包含图案数据和/或照明设定数据的使用案例数据；使用该使用案例数据确定成像规格数据；为将投射镜头的成像行为适配于使用案例的目的，以依赖于成像规格数据的方式通过该投射镜头的控制单元(CU)控制该投射镜头(PO)的可控光学部件；借助于适配于使用案例的投射镜头将图案成像至基板上。

主权项

1.一种投射曝光方法，以图案的至少一个像，曝光辐射敏感基板，所述方法包含以下步骤：在照明系统与投射曝光设备的投射镜头之间提供所述图案，使得所述图案设置于所述投射镜头的物平面区域内并能够通过所述投射镜头成像至所述投射镜头的像平面中，所述像平面关于所述物平面光学共轭，其中所述图案的成像相关特性能够由图案数据表征；根据特定于使用案例并能够由照明设定数据表征的照明设定，由所述照明系统提供的照明辐射照明所述图案的照明区域；其特征在于：确定使用案例数据，所述案例数据特定于所述使用案例并包含图案数据和/或照明设定数据；使用所述使用案例数据，确定成像规格数据；为将所述投射镜头的成像行为适配于所述使用案例的目的，以依赖于所述成像规格数据的方式，通过所述投射镜头的控制单元，控制所述投射镜头的可控光学部件；借助于适配于所述使用案例的投射镜头，将所述图案成像至所述基板上，以及关于所述使用案例数据确定成像规格数据，使得至少两个场点的成像规格数据在至少一个成像规格方面不同。