[发明专利]用于发光器件的叠层以及制备所述叠层的处理在审
申请号: | 201480054890.2 | 申请日: | 2014-10-07 |
公开(公告)号: | CN105684181A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 李荣盛;韩镇宇 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;刘春元 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及用于发光器件的叠层,包括:玻璃衬底;凸出的随机网络,形成在所述玻璃衬底上;以及平坦层,形成在所述网络上,其中,由玻璃釉料形成所述凸出的网络。根据本发明的用于发光器件的叠层特征在于,包括网络,其诱导用于有效率地向外提取在玻璃衬底与内部光提取层之间的界面处的光的损耗的光的散射。所述叠层适合于光学器件(诸如有机发光二极管(OLED)、背光和照明等)的工业领域。 | ||
搜索关键词: | 用于 发光 器件 以及 制备 述叠层 处理 | ||
【主权项】:
一种用于发光器件的叠层,包括:玻璃衬底,具有从1.45到1.65的折射率n1;由釉质制成的凸出的随机网络,形成在所述玻璃衬底上,所述网络具有范围从1.45到1.65的折射率n2;以及由釉质制成的平坦层,形成在所述网络和所述玻璃衬底上,所述平坦层具有范围从1.8到2.1的折射率n3;其中,至少50%,优选地至少75%并且更优选地至少85%的所述凸出示出具有如下的横截面:范围从1μm到10μm的高度(b),优选地,所述凸出的最大高度小于15μm,以及范围从2μm到40μm,优选地至多10μm的宽度;以及其中,至少50%,优选地至少75%,并且更优选地至少85%的所述网络的间距(c)处于从2μm到15μm的范围中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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