[发明专利]金属氧化物靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201480055081.3 | 申请日： | 2014-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN105593400A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | C.西蒙斯;C.C.施塔尔;J.瓦格纳 | 申请（专利权）人： | 贺利氏德国有限责任两合公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C4/06;C23C4/134 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘维升;石克虎 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造层，特别是光学层的溅射靶。本发明还涉及层，特别是光学层，和用于制造溅射靶的装置。此外，本发明涉及制造溅射靶的方法。根据本发明例如如下：该溅射靶进一步包含至少一种金属氧化物或进一步包含至少一种由至少两种金属氧化物构成的组合或进一步包含合金形式或混合物形式的至少一种金属氧化物的组合，以通过元素Si和Al或其合金和通过所述至少一种金属氧化物或其组合生成具有金属氧化物成分的溅射靶。该溅射靶中的金属氧化物优选是选自ZrO2、Ta2O5、Y2O3、HfO、CaO、MgO、Ce2O3、Al2O3、TiO2或Nb2O5的金属氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 氧化物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
用于制造层，特别是光学层的溅射靶，其包含元素Si和Al或Si‑Al合金，其特征在于所述溅射靶进一步包含至少一种金属氧化物或进一步包含至少一种由至少两种金属氧化物构成的组合或进一步包含合金形式或混合物形式的至少一种金属氧化物的组合，以通过元素Si和Al或其合金和通过所述至少一种金属氧化物或其组合生成具有金属氧化物成分的溅射靶。
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