[发明专利]未加工的直接带隙芯片在硅光子器件中的集成有效

专利信息
申请号: 201480055779.5 申请日: 2014-10-09
公开(公告)号: CN105612612B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 斯蒂芬·B·克拉苏利克;约翰·达拉萨斯;阿米特·米斯拉伊;蒂莫西·克雷亚佐;埃尔顿·马切纳;约翰·Y·施潘 申请(专利权)人: 斯考皮欧技术有限公司
主分类号: H01L23/13 分类号: H01L23/13;H01L23/28
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何冲;黄隶凡
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于跨两种或更多种材料分裂光子功能的复合器件包括基台、芯片以及将芯片固定至基台的接合部。基台包括基底层和器件层。器件层包含硅并且具有使基底层的一部分露出的开口。芯片(III‑V族材料)包括有源区(例如,用于激光器的增益介质)。芯片被接合至基底层的通过开口露出的部分,使得芯片的有源区与基台的器件层对准。涂层将芯片密封在基台中。
搜索关键词: 加工 直接 芯片 光子 器件 中的 集成
【主权项】:
一种用于跨两种或更多种材料分裂光子功能的复合器件,所述复合器件包括:基台,所述基台包括:基底层;在所述基底层之上的器件层,其中:所述器件层包含第一材料;所述第一材料为半导体;以及所述器件层包括形成所述器件层中的开口的多个壁,使得所述基台的所述基底层的一部分通过所述器件层露出;芯片,其中:所述芯片包括有源区;以及所述有源区包含第二材料;接合部,所述接合部将所述芯片固定至所述基台,其中:所述芯片被固定至所述基台的所述基底层;以及所述基台的所述器件层与所述芯片的所述有源区对准;以及涂层,其中所述涂层将所述芯片密封在所述基台中。
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