[发明专利]使用二硫键以形成用于纳米流体设备的可逆的和可重复使用的涂层

摘要

本文公开了用于纳米孔结构的可重复使用的涂层。纳米孔结构包括包含纳米通道的基质，和布置在纳米通道的至少一部分表面上的化学化合物的单层。该化学化合物与引入到该纳米通道中的至少一种分析物结合化合物形成可逆键。还公开了制造和使用该可重复使用的涂层的方法。

主权项

1.纳米孔装置，其包括：基质，所述基质包含第一纳米通道，所述第一纳米通道具有在第一储室和第二储室之间延伸的表面，其中所述基质是氮化硅；可重复使用的涂层，所述涂层通过布置在所述第一纳米通道的至少一部分所述表面上的单层限定，所述单层包含双官能化学化合物,所述双官能化学化合物含有对所述氮化硅表面具有反应性的异羟肟酸基团或膦酸基团和从所述第一纳米通道的所述表面延伸的第一巯基基团；和分析物结合化合物，所述分析物结合化合物与所述单层形成可逆二硫键，所述分析物结合化合物包含通过连接基团与分析物结合基团连接的第二巯基基团，所述第二巯基基团与所述第一巯基基团形成所述可逆二硫键。