[发明专利]测量同位素比的方法有效

专利信息
申请号: 201480056911.4 申请日: 2014-11-10
公开(公告)号: CN105659354B 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: H-J·舒吕特;O·克拉克;J·拉德克;B·斯特拉瑟;J·施韦特斯;E·瓦佩尔郝斯特 申请(专利权)人: 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司
主分类号: H01J49/00 分类号: H01J49/00;G01N21/31
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 乐洪咏,郭辉
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在同位素比光谱仪中测量连续样品的同位素比。在测量时间段内测量至少一个样品同位素比并且在所述测量时间段的至少一部分内测量样品浓度基于测量的样品浓度为所述光谱仪选择参考气体浓度用于对在所述测量时间段期间测量的样品作参考。在光谱仪中在选择的参考气体浓度下测量参考气体的同位素比。使用在对应的参考气体浓度下测量的参考气体的同位素比校准在测量时间段期间测量的样品的至少一个同位素比,并且确定多个校准的同位素比和多个样品气体浓度测量,每个维持不同时间。
搜索关键词: 测量 同位素 方法
【主权项】:
一种在同位素比光谱仪中测量连续样品的同位素比的方法,所述方法包含:a)在所述光谱仪中在测量时间段内测量至少一个样品同位素比,其中n≥1;b)在所述测量时间段的至少一部分内测量样品浓度c)使在所述测量时间段期间测量的所述样品作参考的用于所述光谱仪的参考气体浓度与所述测量的样品浓度匹配;d)在所述光谱仪中在所述匹配的参考气体浓度下测量所述参考气体的同位素比;e)使用在所述对应的参考气体浓度下所测量的所述参考气体的同位素比,校准在所述测量时间段期间测量的具有样品浓度的所述样品的所述至少一个同位素比;以及f)确定多个经校准的同位素比和多个样品气体浓度测量,所述多个经校准的同位素比和所述多个样品气体浓度测量中的每一个维持不同、相应的时间。
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