[发明专利]用于化学机械平坦化后的基板抛光预清洁的系统、方法和装置有效
| 申请号： | 201480057214.0 | 申请日： | 2014-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN105722641B | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | C·P·萨卡塔;H·陈;J·K·阿特金森;B·J·布朗;J·唐;Y·陈;Y·丁 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B37/04;B25J15/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一些实施例中，提供一种用于清洁基板的装置，所述装置包含：(1)基板卡盘，经配置以利用可接取的基板的前侧来支撑所述基板；(2)抛光衬垫组件，经配置以支撑抛光衬垫，所述抛光衬垫的直径小于所述基板的直径；以及(3)摆动手臂，所述摆动手臂耦接至所述抛光衬垫，并且经配置以：沿所述基板的前侧定位并旋转所述抛光衬垫；以及控制在清洁期间由所述抛光衬垫抵靠所述基板的前侧而施加的力的量。所述基板卡盘、所述抛光衬垫组件与所述摆动手臂经配置以抛光清洁所述基板。公开了众多附加的方面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 平坦 抛光 清洁 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁基板的装置，所述装置包括：基板卡盘，经配置以利用可接取的基板的前侧来支撑所述基板；抛光衬垫组件，所述抛光衬垫组件包括弯曲板和抛光头帽盖，所述弯曲板具有第一侧和相对的第二侧，所述抛光头帽盖经配置以支撑抛光衬垫，其中所述抛光衬垫的直径小于所述基板的直径；以及具有可旋转轴的摆动手臂，所述摆动手臂通过所述弯曲板耦接至所述抛光衬垫组件，并且经配置以：沿所述基板的前侧定位并旋转所述抛光衬垫；以及控制在清洁期间由所述抛光衬垫抵靠所述基板的前侧而施加的力的量，其中所述弯曲板的所述第一侧耦接至所述摆动手臂的所述可旋转轴，并且所述弯曲板的所述第二侧被可移除地耦接至所述抛光头帽盖；其中所述基板卡盘、所述抛光衬垫组件与所述摆动手臂经配置以抛光清洁所述基板。
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