[发明专利]用于计算结构的电磁散射性质和近似结构的重构的方法和设备有效
申请号: | 201480057752.X | 申请日: | 2014-08-08 |
公开(公告)号: | CN105814489B | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | M·C·范伯登 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01N21/95;G01N21/956 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华,吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种计算结构的电磁散射性质的方法,结构包括不同性质的材料并且结构在至少一个横向方向上是周期性的并在垂直方向上延伸,包括通过针对在至少一个横向方向上的多个模式中的每个相应模式执行在垂直方向上的伪谱多项式(切比雪夫)展开乘以对于多个模式中的所有模式都使用在正交方向上的相同样本点的1D格林函数的积分(1350),针对每个模式在数值上求解用于电磁散射的体积分方程。积分通过求解第一(1116)与第二(1120)离散变换步骤之间的方程的正则化线性系统来执行以计算(1118)正则化切比雪夫多项式系数矢量(γ)的值。使用数值求解的结果来计算结构的电磁散射性质。 | ||
搜索关键词: | 用于 计算 结构 电磁 散射 性质 近似 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种计算结构的电磁散射性质的方法,所述结构包括不同性质的材料并且所述结构在至少一个横向方向上是周期性的并在相对于所述至少一个横向方向正交的方向上延伸,所述方法包括:‑通过针对在所述至少一个横向方向上的多个模式中的每个相应模式执行在所述正交方向上的伪谱多项式展开乘以对于所述多个模式中的所有模式都使用在所述正交方向上的相同样本点的1D格林函数的积分,针对所述多个模式在数值上求解用于电磁散射的体积分方程,其中所述积分通过求解方程的正则化线性系统来执行;和‑使用所述数值求解的结果来计算所述结构的电磁散射性质。
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