[发明专利]带有简化光学元件的远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法有效
| 申请号： | 201480058806.4 | 申请日： | 2014-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN105706002B | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 马耶德·A·福阿德;克里斯多弗·丹尼斯·本彻;克里斯多弗·G·塔尔博特;约翰·克里斯多弗·莫兰 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 徐金国,赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法，包含EUV来源，该EUV来源引导EUV照射穿过光圈；光检测器，该光检测器检测带有由基板反射离开的减低的偏离轴的射线的掩模照射；及计算机装置，该计算机装置处理由该光检测器检测到的图像数据。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 简化 光学 元件 紫外线 euv 检查 系统 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造远紫外线(EUV)基板检查系统的方法，包括以下步骤：提供EUV来源；引导所述EUV来源的EUV照射穿过光圈至基板上；检测在光检测器上的掩模照射，所述掩模照射带有由所述基板反射离开的减低的偏离轴的射线；由所述光检测器传输图像数据至计算机装置，其中由所述光检测器传输所述图像数据至所述计算机装置的步骤包含以下步骤：由EUV图像传感器传输明视野、暗视野或衍射图案的图像传感器数据至图像处理器，以定位所述基板的缺陷；以及在所述计算机装置上处理所述图像数据，其中引导所述EUV来源的所述EUV照射穿过所述光圈的步骤包含以下步骤：引导EUV点来源的EUV照射以一偏斜角度穿过EUV图像传感器的光圈至晶片上或EUV掩模上。
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