[发明专利]溅镀靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201480059727.5 | 申请日： | 2014-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN105683407B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 尼古劳斯·赖因弗雷德;迈克尔·朔贝尔;沃尔弗拉姆·克纳布;约尔格·温克勒 | 申请（专利权）人： | 攀时奥地利公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;张杰 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 本发明涉及一种由Mo合金构成的溅镀靶，该溅镀靶包含周期表的第5族中的至少一种金属，其中第5族金属的平均含量为5at％至15at％并且Mo含量为≥80at％。该溅镀靶的平均C/O比以(at％/at％)为单位为≥1。根据本发明的溅镀靶能够通过变形制造并且具有改良的溅镀性能。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由Mo合金构成的溅镀靶，所述溅镀靶包含周期表的第5族中的至少一种金属，其中第5族金属的平均含量CM为5at％至15at％并且Mo含量为≥80at％，其特征在于，所述溅镀靶的平均C/O比以at％/at％为单位为≥1。
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