[发明专利]具有对光子通量的快速空间调制的X射线成像设备有效
| 申请号： | 201480060664.5 | 申请日： | 2014-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN105745718B | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | R·K·O·贝林 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/10 | 分类号： | G21K1/10;H05G1/00;G21K1/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 李光颖,王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 呈现了一种X射线成像设备(1)和用于操作这样的设备的方法。在实施例中，所述设备(1)包括X射线源(5)；第一光栅(13)、第二光栅(15)和第三光栅(17)的布置(12)；X射线探测器(7)；以及控制设备(21)。第一、第二和第三光栅(13、15、17)被布置在观察体积(3)的上游的区域中的X射线的射束路径(9)中。所述第二光栅(15)和所述第三光栅(17)中的至少一个包括多个子光栅(37)，其中，所述子光栅中的每个包括操纵工具(39)，所述操纵工具用于将所述子光栅关于所述第二光栅和所述第三光栅中的另一个进行位移。所述控制设备(21)适于控制所述操纵工具(39)。因此，可以对子光栅进行定位，使得在X射线透射通过所述第二光栅(15)后生成的干涉图样的强度最大值被布置为诸如与所述第三光栅(17)的强X射线吸收部分一致，或者与所述第三光栅(17)中的弱X射线吸收部分一致。因此，可以通过特定地定位所述子光栅中的每个来对通过所述布置(12)的X射线透射进行局部调整。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 光子 通量 快速 空间 调制 射线 成像 设备 | ||
【主权项】：
一种用于对被布置在观察体积(3)内的对象(49)的感兴趣区域进行成像的X射线成像设备(1)，所述X射线成像设备包括：X射线源(5)，其适于生成至少部分相干的X辐射，能够控制的透射布置(12)，其包括至少局部周期性X射线相位修改单元(15)和至少局部周期性X射线吸收单元(17)，X射线探测器(7)，以及控制设备(21)，其中，在所述观察体积的上游的区域中的由所述X射线源发射的X射线的射束路径(9)中，所述周期性X射线吸收单元(17)被布置在所述周期性X射线相位修改单元(15)后面，并且所述周期性X射线相位修改单元和所述周期性X射线吸收单元被彼此间隔；其中，所述周期性X射线相位修改单元和所述周期性X射线吸收单元中的至少一个包括多个子单元(37)，其中，所述子单元中的至少一个包括用于改变干涉图样的操纵工具(39)，其中，控制设备适于控制至少一个所述操纵工具。
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