[发明专利]由合成的碳同素异形体基材料制成并具有多个功能层级的单件式空心微机械部件在审
申请号: | 201480061374.2 | 申请日: | 2014-10-06 |
公开(公告)号: | CN105705458A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | P·杜博瓦;S·梅尔扎格赫;C·沙邦 | 申请(专利权)人: | 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 |
主分类号: | B81C99/00 | 分类号: | B81C99/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘敏;吴鹏 |
地址: | 瑞士勒*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造由合成的碳同素异形体基材料(215,315,415)制成的单件式微机械部件(221,321,421,523,525)的方法,其特征在于,包括下述步骤:(a)形成基底(201,301,401),该基底在至少三个层级(N1,N2,N3,NX)上包括待制造的所述微机械部件的凹腔(203,303,403);(b)用所述合成的碳同素异形体基材料层覆盖基底(201,301,401)的所述凹腔(203,303,403),该材料层的厚度(e1)小于所述腔的所述至少三个层级(N1,N2,N3,NX)中每一个的深度;和(c)移走所述基底(201,301,401),以释放在所述凹腔中形成的单件式微机械部件(221,321,421,523,525)。 | ||
搜索关键词: | 合成 同素异形体 基材 制成 具有 功能 层级 单件式 空心 微机 部件 | ||
【主权项】:
用于制造由合成的碳同素异形体基材料(215、315、415)制成的单件式微机械部件(221、321、421、523、525)的方法,该方法包括以下步骤:a)形成基底(201、301、401),该基底在至少三个层级(N1、N2、N3、Nx)上包括用于待制造的单件式微机械部件的凹腔(203、303、403);b)用合成的碳同素异形体基材料层覆盖基底(201、301、401)的凹腔(203、303、403),该材料层的厚度(e1)小于凹腔的至少三个层级(N1、N2、N3、Nx)中每一个的深度;c)移除所述基底(201、301、401),以释放在凹腔中形成的单件式微机械部件(221、321、421、523、525);其特征在于,步骤a)包括以下阶段:i)形成第一晶片(202、302、402),该第一晶片包括蚀刻贯通的至少一第一图案(205、305、405);ii)形成第二晶片(204、304、404),该第二晶片包括蚀刻贯通的至少一第二图案(207、307、311、407);iii)形成没有贯通图案的第三晶片(206、306、406);iv)将第一晶片、第二晶片和第三晶片结合,以形成在至少三个层级上包括凹腔的基底(201、301、401)。
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