[发明专利]经等离子体处理的聚合物膜在审
申请号: | 201480061539.6 | 申请日: | 2014-12-15 |
公开(公告)号: | CN106102885A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 伊哈卜·尼扎尔·乌达;邵磊 | 申请(专利权)人: | 沙特基础工业全球技术公司 |
主分类号: | B01D71/64 | 分类号: | B01D71/64 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 王春伟;刘继富 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 公开了经过等离子体处理的聚合物共混物膜以及它们的使用方法。该聚合物膜包含自具微孔聚合物(PIM)和第二聚合物的聚合物共混物。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 聚合物 | ||
【主权项】:
一种包含聚合物共混物的聚合物膜,所述聚合物共混物包含自具微孔聚合物(PIM)和第二聚合物,其中所述聚合物膜经过等离子体处理。
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