[发明专利]梯度薄膜有效
申请号: | 201480062243.6 | 申请日: | 2014-09-19 |
公开(公告)号: | CN105723013B | 公开(公告)日: | 2018-01-16 |
发明(设计)人: | A·拉纳德;M·A·马托斯 | 申请(专利权)人: | 波音公司 |
主分类号: | C23C16/453 | 分类号: | C23C16/453;C23C16/455 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,龚泽亮 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种物品及生产所述物品的方法和系统,所述物品包含自物品表面起一定厚度的第一膜,所述第一膜相对于所述物品的表面在垂直和/或水平方向上在至少一部分所述厚度的第一膜内具有梯度化学组成。 | ||
搜索关键词: | 梯度 薄膜 | ||
【主权项】:
一种用于制造多层梯度组成薄膜的方法,所述方法包括:将至少一种化学前体引入到等离子体中,其中,所述引入包括第一化学前体和不同于所述第一化学前体的至少一种其它化学前体;沉积一定厚度的第一膜至衬底的表面,所述第一膜具有来源于所述至少一种化学前体的化学组成;修改在沉积一定厚度的第一膜期间与所述至少一种化学前体的沉积相关的至少一个等离子体相关的工艺参数,所述工艺参数是选自由等离子体功率、载气流速、前体温度、鼓泡器流速、稀释流速或相对于所述衬底的等离子体头垂直位置组成的组中的一个或多个参数;相对于所述衬底在垂直方向上或在垂直和水平方向上独立或组合地改变至少一部分所述厚度的第一膜的化学组成;在所述第一膜中沉积一定厚度的至少部分来源于第二化学前体的第二膜,所述第二膜的化学组成不同于所述第一膜,至少一部分所述第二膜相对于所述衬底表面在水平、垂直或水平和垂直方向上与所述第一膜空间分离;和提供所述第一膜和所述第二膜之间的界面,所述界面包含所述第一膜的元素组成相对于所述第二膜的变化,其中,相对于所述衬底表面,所述界面在所述第一膜的垂直截面和所述第二膜的垂直截面之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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