[发明专利]用于后段(BEOL)互连的利用多色光桶的自对准过孔图案化有效
申请号: | 201480063066.3 | 申请日: | 2014-10-30 |
公开(公告)号: | CN105793977B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | R·L·布里斯托尔;J·M·布莱克韦尔;A·M·迈尔斯;K·J·辛格 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L21/60 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 林金朝;王英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 描述了用于后段(BEOL)互连的利用多色光桶的自对准过孔图案化。在示例中,用于集成电路的互连结构包括设置在衬底上方的互连结构的第一层。互连结构的第二层设置在互连结构的第一层上方。第二格栅的电介质线与第一格栅的电介质线重叠并接触,但第二格栅的电介质线与第一格栅的电介质线不同。第一电介质区和第二电介质区设置在第一格栅的金属线与第二格栅的金属线之间并且与第一格栅的电介质线的上部和第二格栅的电介质线的下部处于同一平面。第一电介质区由第一交联的可光解材料组成,并且第二电介质区由不同的第二交联的可光解材料组成。 | ||
搜索关键词: | 用于 后段 beol 互连 利用 多色 对准 图案 | ||
【主权项】:
1.一种用于集成电路的互连结构,所述互连结构包括:设置在衬底上方的所述互连结构的第一层,所述第一层包括第一方向上的交替的金属线和电介质线的第一格栅,其中,所述电介质线具有高于所述金属线的最高表面的最高表面;以及设置在所述互连结构的所述第一层上方的所述互连结构的第二层,所述第二层包括第二方向上的交替的金属线和电介质线的第二格栅,所述第二方向垂直于所述第一方向,其中,所述电介质线具有低于所述第二格栅的所述金属线的最低表面的最低表面,其中,所述第二格栅的电介质线与所述第一格栅的电介质线重叠并接触,但所述第二格栅的电介质线与所述第一格栅的电介质线不同;以及第一电介质区和第二电介质区,其设置在所述第一格栅的金属线与所述第二格栅的金属线之间,并且与所述第一格栅的电介质线的上部和所述第二格栅的电介质线的下部处于同一平面中,所述第一电介质区包括第一交联的可光解材料,并且所述第二电介质区包括不同的第二交联的可光解材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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