[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统

摘要

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：光瞳形成单元(36)，其引导光至空间光调制器(52)上，该空间光调制器以空间解析方式透射或反射照射光。物镜(58)，将该空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于光学积分器(60)的光进入分面(75)上，如此该光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110')与所述光进入分面中的一个光进入分面完全重合。该光瞳形成单元(36)以及该空间光调制器(52)受到控制，使得该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。

主权项

1.一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：a)光瞳平面(76)；b)掩模平面(88)，其中能够布置要由投射光照明的掩模(16)；c)光学积分器(60)，配置成产生定位于所述光瞳平面(76)中的多个第二光源(106)，其中所述光学积分器(60)包含多个光进入分面(75)，所述多个光进入分面中的每一个与所述第二光源(106)之一关联，并且其中所述光进入分面的像至少基本上在所述掩模平面内重叠；d)空间光调制器(52)，具有光离开表面(57)并且配置成以空间解析方式透射或反射照射的投射光；e)光瞳形成单元(36)，配置成引导投射光至所述空间光调制器上；f)物镜(58)，将所述空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于所述光学积分器(60)的光进入分面(75)上，使得所述光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110′)与所述光进入分面(75)中的一个光进入分面完全重合；g)控制单元(90)，配置成控制所述光瞳形成单元(36)以及所述空间光调制器(52)，使得所述物体区域(110)由所述光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。