[发明专利]聚晶化学气相沉积的金刚石工具部件以及制造、安装和使用其的方法有效
| 申请号： | 201480063179.3 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105765102B | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | M·马克林孟 | 申请（专利权）人： | 六号元素技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C30B29/04;B23B27/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王海宁 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种用于聚晶CVD合成金刚石工具的聚晶CVD合成金刚石工件，该聚晶CVD合成金刚石工件包含：工作表面；和后部安装表面；其中后部安装表面的平均横向晶粒尺寸不小于10μm，并且其中所述工作表面包括：(a)较小的金刚石晶粒，相比于后部安装表面而言；(b)10nm至15μm的平均横向晶粒尺寸；和(c)由聚焦在工作表面上的激光产生的拉曼信号，其表现出一个或多个下列特征：(1)在1332cm‑1处的sp3碳峰，其具有不大于8.0cm‑1的半峰全宽，(2)在1550cm‑1处的sp2碳峰，其高度不大于1332cm‑1处的sp3碳峰高度的20％，当使用633nm的拉曼激发源时在背景减扣之后；和(3)在1332cm‑1处的sp3碳峰不小于使用785nm的拉曼激发源的拉曼光谱中的局部背景强度的10％。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 金刚石工具 部件 以及 制造 安装 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于聚晶CVD合成金刚石工具的聚晶CVD合成金刚石工件，该聚晶CVD合成金刚石工件包含：工作表面；和后部安装表面；其中后部安装表面的平均横向晶粒尺寸不小于10μm，并且其中所述工作表面包含：(a)较小的金刚石晶粒，相比于后部安装表面而言；(b)10nm至15μm的平均横向晶粒尺寸；和(c)由聚焦在工作表面上的激光产生的拉曼信号，其表现出一个或多个下列特征：(1)在1332cm‑1处的sp3碳峰，其具有不大于8.0cm‑1的半峰全宽，和(2)在1550cm‑1处的sp2碳峰，其高度不大于1332cm‑1处的sp3碳峰高度的20％，当使用633nm的拉曼激发源时在背景减扣之后。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
