[发明专利]用于处理电气保护设备壁表面的方法及包括至少一个根据其处理的壁的设备有效
| 申请号： | 201480063404.3 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN105849849B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | M.拉皮奥克斯;M.里瓦尔;S.法伊克 | 申请（专利权）人： | 施耐德电器工业公司 |
| 主分类号： | H01H73/18 | 分类号： | H01H73/18;H01H71/02;B23K26/352;B23K26/361;B23K26/0622;B29C37/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 姚冠扬 |
| 地址： | 法国吕埃*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于处理壁的表面(18)的方法，以降低其导电性，所述表面位于被称为冷区域的区域中，所述区域位于其中电弧可能会发生在电弧保护设备中的区域附近，所述冷区域构成用于再冷凝切割残留物的区域。所述方法的特征在于，其包括对所述表面(18)进行微纹理化，以便促进切割残留物的再冷凝的不均匀性，通过所述残留物的沉积物在表面上生长，从而创建残留物岛部(19)，因此限制所产生的沉积物的导电性。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积物 导电性 冷区域 再冷凝 切割 电气保护设备 电弧 不均匀性 电弧保护 壁表面 微纹理 岛部 生长 创建 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理面板的表面以便降低其导电性的方法，所述表面位于被称为冷区域的区域中，所述区域位于其中电弧可能会发生在电保护设备中的区域附近，所述冷区域形成切换残留物的再冷凝的区域，其特征在于，其包括在该表面(18)上形成微纹理，以便促进切换残留物的再冷凝的不均匀性，由于这些残留物的沉积物在表面上生长，从而创建残留物的岛部(19)，因此限制所产生的沉积物的导电性。
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