[发明专利]紫外和等离子体处理的聚合物膜在审
| 申请号： | 201480063583.0 | 申请日： | 2014-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN105764602A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 伊哈卜·尼扎尔·乌达;邵磊;卡琳娜·K·科佩茨 | 申请（专利权）人： | 沙特基础工业全球技术公司 |
| 主分类号： | B01D69/02 | 分类号： | B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 王春伟;刘继富 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了聚合物共混物膜以及用于处理和使用所述膜的方法。所述膜包含至少自具微孔聚合物(PIM)和第二聚合物的共混物，其中所述聚合物膜已经用紫外(UV)辐射和等离子体处理过。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 等离子体 处理 聚合物 | ||
【主权项】：
一种聚合物膜，其包含自具微孔聚合物(PIM)和第二聚合物的聚合物共混物，其中所述聚合物膜已经用紫外(UV)辐射和等离子体处理过。
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