[发明专利]具有自调节清洁系统的过滤器设备

摘要

根据本发明，过滤器设备包括气体供给部(压缩空气供给系统)，其以供给压力pN向过滤器设备供应清洁介质。过滤器设备还包括清洁罐，该清洁罐由气体供给部供给，并且该清洁罐中以清洁压力pT存储有清洁介质。此外，过滤器设备还包括具有过滤器压力pF的压力过滤器。压力过滤器通过来自清洁罐的清洁介质以预定时间间隔循环地进行清洁或以依赖于压差的方式进行清洁。

主权项

一种过滤器设备，包括：‑气体供给部，所述气体供给部以供给压力pN供应清洁介质，‑清洁罐，所述清洁罐中以清洁压力pT存储有所述清洁介质，并且所述清洁罐由所述气体供给部供给，其中pN>pT，‑具有过滤器压力pF的压力过滤器，所述压力过滤器由来自所述清洁罐的清洁介质循环地或以依赖于压差的方式进行清洁，其特征在于，所述过滤器设备具有控制回路，所述控制回路包括：‑第一压差调节器，所述第一压差调节器布置在所述气体供给部与所述清洁罐之间，‑第一控制单元，所述第一控制单元在下限压差的情况下致动所述第一压差调节器，其中所述第一控制单元具有第一正压室和第一负压室，‑第二压差调节器，所述第二压差调节器布置在所述清洁罐的出口管线中，‑第二控制单元，所述第二控制单元在上限压差的情况下致动所述第二压差调节器，其中所述第二控制单元具有第二正压室和第二负压室，‑正操作管线，所述正操作管线将所述第一正压室流体连接至所述第二正压室和所述清洁罐，‑负操作管线，所述负操作管线将所述第一负压室流体连接至所述第二负压室和所述压力过滤器，其中，所述清洁压力pT相对于所述过滤器压力pF的正压在所述第一控制单元和所述第二控制单元处起主导作用，其中当所述正压低于所述下限压差时，所述第一控制单元致动所述第一压差调节器，其中当所述正压高于所述上限压差时，所述第二控制单元致动所述第二压差调节器。