[发明专利]绝缘栅双极晶体管有效

专利信息
申请号: 201480065131.6 申请日: 2014-10-30
公开(公告)号: CN105745758B 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: C.科瓦斯塞 申请(专利权)人: ABB瑞士股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张金金;刘春元
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 本公开提供一种绝缘栅双极晶体管,其具有第一栅极单元和第二栅极单元,和至少两个第三沟槽栅电极。该第一栅极单元包括至少两个第一沟槽栅电极,该第二栅极单元包括至少一个第二沟槽栅电极。该晶体管易于制造,因为第三沟槽栅电极可以与第一栅极单元同时制造,而不需要额外掩模用于形成该第三沟槽栅电极。该晶体管引入了横向有源沟槽,其能够在假沟槽侧(即,朝着第二栅单元的侧)处使基极层与高掺杂条断开而没有任何额外掩模。
搜索关键词: 绝缘 双极晶体管
【主权项】:
1.一种绝缘栅双极晶体管(1),其在发射极侧(12)上的发射极电极(10)和与所述发射极侧(12)相对的集电极侧(16)上的集电极的电极(14)之间具有下列层,包括:‑第一传导类型的低掺杂漂移层(2);‑与第一传导类型不同的第二传导类型的集电极层(5),其设置在所述漂移层(2)与所述集电极的电极(14)之间并且与所述集电极的电极(14)电接触;‑第二传导类型的基极层(3),该基极层(3)设置在所述漂移层(2)与所述发射极电极(10)之间,该基极层(3)与所述发射极电极(10)电接触;‑第一传导类型的源区(4),其朝着所述发射极侧(12)设置在所述基极层(3)上并且与所述发射极电极(10)电接触,该源区(4)具有比所述漂移层(2)更高的掺杂浓度;‑第一栅单元(6),其包括至少两个第一沟槽栅电极(61)和至少两个平面栅电极(62),其中每个第一沟槽栅电极(61)具有第一导电层(610)和第一绝缘层(612),其中每个第一导电层(610)通过第一绝缘层(612)而与第一或第二传导类型的任何层分离,并且其中所述源区(4)邻接至少一个第一沟槽栅电极(61),其中每个平面栅电极(62)具有第二导电层(620)和第二绝缘层(622),其中每个第二导电层(620)通过第二绝缘层(622)而与第一或第二传导类型的任何层分离,‑第二栅单元(7),其包括至少一个第二沟槽栅电极(71),其中所述至少一个第二沟槽栅电极(71)包括第三导电层(710)和第三绝缘层(712),该至少一个第二沟槽栅电极(71)通过所述第三绝缘层(712)而与第一或第二传导类型的任何层分离,其中所述至少一个第三导电层(71)电连接到所述发射极电极(10),其中每个第二导电层(620)与第一导电层(610)接触使得所述第一和第二导电层(610,620)形成自身封闭的第一形状,所述第一栅单元(6)通过所述第一形状将所述第二栅单元(7)包封到所述第二栅单元的横侧,该横侧设置成垂直于所述发射极侧(12)和所述集电极侧(16),‑至少两个第三沟槽栅电极(8),其中的每个具有第四导电层(80)和第四绝缘层(82),其中所述第四导电层(80)通过所述第四绝缘层(82)而与第一或第二传导类型的任何层分离,其中第三沟槽栅电极(8)中的每个设置在所述至少两个平面栅电极(62)中的一个与所述第二栅单元(7)之间使得至少两个第一和第三沟槽栅电极(61,8)电连接并且形成自身封闭的第二形状,所述第二栅单元(7)被该第二形状包封,‑第二传导类型的至少两个条(35),其中的每个设置在所述平面栅电极(62)下面使得每个条(35)将平面栅电极(62)与至少在与第三沟槽栅电极(8)相对的侧上的第一或第二传导类型的任何其他层分离,其中所述至少两个条(35)延伸到所述发射极电极(10)并且与所述发射极电极(10)电接触,其中所述至少两个条(35)具有比所述基极层(3)更高的最大掺杂浓度或自所述发射极侧(12)更大的深度中的至少一个,‑其中每个第三沟槽栅电极(8)将条(35)和平面栅电极(62)与所述第二栅单元(7)分离,其中所述基极层(3)将所述第二栅单元(7)在与所述发射极侧(12)平行的平面中与所述包封第二形状分离。
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