[发明专利]用于通过无接触式光学法定位光刻掩模的装置和方法有效
| 申请号： | 201480066168.0 | 申请日： | 2014-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN105829971B | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 吉莱斯·弗莱斯阔特;格纳尔·瑞贝特 | 申请（专利权）人： | FOGALE纳米技术公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人： | 谢攀,刘继富 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括(i)第一定位单元(20)，其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动；(ii)成像单元(20、22、23、30)，其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像，以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像；和(iii)至少一个光学距离传感器(26)，其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 通过 接触 光学 法定 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以曝光所述晶片(11)的装置，其包括适合于使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动的第一定位单元(20)，所述装置的特征在于，其还包括：‑成像单元(20、22、23、30)，其适合于沿着至少一个视场(14)生成所述晶片(11)的表面的和所述掩模(10)的至少一个图像，以在所述视场(14)中使所述掩模(10)的和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像，和‑至少一个光学距离传感器(26)，其适合于利用测量光束(28)在一个或更多个视场(14)中产生所述晶片(11)的表面和所述掩模(10)之间的距离测量值，其中所述测量光束至少部分地穿过所述成像单元以在这个或这些视场(14)中形成测量点(15)。
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