[发明专利]使包含氢硅烷的组合物聚合和随后将该聚合物用于制备含硅层的方法

摘要

本发明涉及使包含氢硅烷的组合物聚合和随后将该聚合物用于制备含硅层的方法，其包括以下步骤：a)提供基材；b)提供包含至少一种溶于至少一种有机和/或无机溶剂中的氢硅烷或包含至少一种在不存在溶剂的情况下就已为液态的氢硅烷的组合物，其中所述氢硅烷包含至少一种通式Si_nH_2n+2(n≥3)的直链和/或支化的氢硅烷和/或通式Si_nH_2n(n≥3)的环状氢硅烷；c)借助声空化使来自步骤b)的组合物聚合；d)用来自步骤c)的反应产物涂覆所述基材的表面。本发明还涉及用于使包含氢硅烷的组合物聚合和随后将该聚合物用于制备含硅层的设备，其包含至少一个反应容器(1)和用于产生声空化和/或表面张力波的超声源和/或声变换器(4)，该反应容器含有包含至少一种溶于至少一种有机和/或无机溶剂中的氢硅烷或至少一种在无溶剂的情况下已为液态的氢硅烷的组合物，其中所述氢硅烷包含至少一种通式Si_nH_2n+2(n≥3)的直链和/或支化的氢硅烷和/或通式Si_nH_2n(n≥3)的环状氢硅烷；和/或该反应容器含有上述氢硅烷溶液或纯的液态氢硅烷，向其中至少添加单‑和/或乙硅烷‑和/或含硼掺杂剂和/或含磷掺杂剂和/或选自Ar、He的惰性气体和/或纳米颗粒和/或聚合引发剂和/或催化剂和/或表面张力改性剂，其中反应容器(1)具有至少一个可封闭的开口(6)并且待涂覆的基材(8)面对开口(6)设置，并且基材(8)在背对涂覆面的那面上具有加热源(9)。

主权项

1.使包含氢硅烷的组合物聚合并随后将所述聚合物用于制备含硅层的方法，其包括以下步骤：a) 提供基材；b) 提供包含至少一种溶于至少一种有机和/或无机溶剂中的氢硅烷或包含至少一种在不存在溶剂的情况下就已为液态的氢硅烷的组合物，其中所述氢硅烷包含至少一种通式Si_nH_2n+2的直链和/或支化的氢硅烷和/或通式Si_nH_2n的环状氢硅烷，其中两个通式中的n ≥ 3；c) 借助声空化使步骤b)的组合物聚合；d) 用来自步骤c)的反应产物涂覆所述基材的表面。