[发明专利]降低晶体管装置中不想要的电容耦合在审

专利信息
申请号: 201480067539.7 申请日: 2014-12-09
公开(公告)号: CN105874625A 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: J·琼曼 申请(专利权)人: 弗莱克因艾伯勒有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/00;H01L51/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 金晓
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种晶体管装置,包括:由半导体沟道连接的源极和漏极导体;以及通过栅极电介质电容耦合到所述半导体沟道的栅极导体;其中所述栅极导体包含与所述源极和漏极导体中的至少一个的至少一部分重叠的至少一个部分;并且所述晶体管装置还包括插在所述源极和漏极导体中的所述至少一个的至少一部分和所述栅极导体的所述至少一个重叠部分之间的图案化的绝缘体以使所述源极和漏极导体中的所述至少一个与所述栅极导体之间的电容耦合降低了多于所述半导体沟道和所述栅极导体之间的电容耦合的任何降低。
搜索关键词: 降低 晶体管 装置 想要 电容 耦合
【主权项】:
一种晶体管装置,包括:由半导体沟道连接的源极和漏极导体;以及通过栅极电介质电容耦合到所述半导体沟道的栅极导体;其中所述栅极导体包含与所述源极和漏极导体中的至少一个的至少一部分重叠的至少一个部分;并且所述晶体管装置还包括插在所述源极和漏极导体中的所述至少一个的至少一部分和所述栅极导体的所述至少一个重叠部分之间的图案化的绝缘体以使所述源极和漏极导体的所述至少一个与所述栅极导体之间的电容耦合的降低多于所述半导体沟道和所述栅极导体之间的电容耦合的任何降低。
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